Películas delgadas de WO3 con dopaje de iones metálicos: En búsqueda de piezoelectricidad

Abstract

El presente trabajo de investigación se enfoca en la fabricación de películas delgadas de WO3 con dopaje de iones metálicos (Al, Pt, Au, Mo), depositadas mediante pulverización catódica con potencia de radiofrecuencia y procesadas a tratamientos térmicos post depósito que van desde 300 C a 600 C (ΔT= 100 C), con la finalidad de entender si existen fases cristalográficas mixtas y variaciones en la composición química que contribuyan la inducción de un comportamiento piezoeléctrico en las películas. Para ello, se llevará a cabo una extensa caracterización mediante microscopía de fuerza piezoeléctrica (PFM), microscopía electrónica de barrido (MEB), espectroscopía de energía dispersiva (EDX), difracción de rayos X con incidencia rasante (DRX), espectroscopía Raman, espectroscopía de fotoelectrones emitidos por rayos X (XPS), muestreo por sonda atómica (APT) y teoría del funcional de la densidad (DFT). Estos resultados ampliarán el panorama de aplicaciones del material en sensores, actuadores y otros dispositivos de almacenamiento y cosecha de energía que impliquen la utilización del comportamiento piezoeléctrico, además del comportamiento de semiconductor y cromogénico.