Cristalización de películas delgadas de WO3 sobre sustratos flexibles a temperaturas menores de 200 °C para su implementación en la electrónica flexible
Resumen
El objetivo de esta investigación es la fabricación de películas delgadas WO3 cristalinas sobre sustrato flexible de PET/ITO a temperatura inferiores a 200 C. Para ello se depositan las películas delgadas de WO3 a través de la técnica de sputtering por radio frecuencia para luego realizarles tratamientos post-depósito para cristalizar dichas películas utilizando irradiación con pulsos de láser y la cristalización asistida con radiación ultravioleta. Las muestras serán analizadas con técnicas de caracterización como DRX de ángulo rasante, microscopía electrónica de barrido con detector EDS (SEM-EDS) y espectroscopía Raman. Existe la necesidad de crear nuevo conocimiento científico relacionado al desarrollo de dispositivos electrónicos flexibles y este proyecto pretende contribuir en ello, comprobando que se puede inducir la cristalización a temperaturas inferiores a 200 C por medio de radiación ultravioleta asistida en películas PET/ITO/WO3 fabricadas por depósito catódico.
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